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Revestimento do respingo do vácuo

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Jin Yuankang vácuo sputtering, geralmente refere-se a magnetron sputtering, pertence ao método de pulverização de baixa temperatura de alta velocidade. O processo de vácuo ao redor de 1 * 10-3Torr, argônio de vácuo de 1,3 * 10-3Pa cheio com gás inerte (Ar) e o substrato de plástico (ânodo) e material de metal (cátodo) entre o mais devido à descarga de incandescência de CC de alta tensão Brilho, descarga) excitação eletrônica produzida por gás inerte, plasma, plasma metal alvo bomba atômica, depositada sobre o substrato de plástico. Em comparação com a deposição de pulverização comumente utilizada, a adubação de deposição e revestimento com substrato de forte aderência do que a alta evaporação. Mais de 10 vezes, as vantagens da densidade de chapeamento uniforme. A evaporação a vácuo precisa fazer metal ou óxido de metal é vaporizado, ea temperatura de aquecimento não é muito alta, caso contrário, o metal depositado em substrato de plástico e gás exotérmico Queimar o substrato de plástico. Várias partículas pulverizadas não são afetadas pela gravidade, o alvo ea posição do substrato pode ser livremente dispostos, a formação de filme a densidade de nucleação inicial é alta, a produção de filme fino e contínuo 10nm abaixo do alvo, longa vida útil, automação de produção contínua de longo tempo.

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